HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱為半導體應用的光刻膠粘合促進劑工藝設備，

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更新時間：2025-09-17
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HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱

HMDS（六甲基二硅氮烷）為半導體應用的光刻膠粘合促進劑。

HMDS烘箱將六甲基二硅胺烷HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、磷化銦lnP、砷化鎵GaAs、鈮酸鋰LiNbO?、硫化鋅ZnS、掩膜版玻璃、石英片、藍寶石、晶圓、碳化硅等第三代、第四代半導體材料表面后經系統(tǒng)加溫，它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。

HMDS預處理機H-2 智能HMDS真空烘箱技術性能

處理產品：2-12寸晶圓及方片均可兼容（可定制）

材質：內箱采用 316L 級不銹鋼

溫度范圍：80-200℃

真空度：≤1torr

工藝數(shù)量：5個工藝設定并保存

操作界面：智能型彩色人機界面，一鍵完成工藝

真空泵：無油渦旋真空泵（或旋片油泵）

HMDS預處理機烘箱其他功能

HMDS低液位報警提示功能

工藝數(shù)據(jù)記錄功能

脫水烘烤

溫度保護程序鎖定保護

圖形反轉功能

HMDS藥液泄漏報警提示功能

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